半导体材料的分析
年份: 1966
作者: 冶金工业部科学技术情报产品标准研究所编
出版: 北京:科学出版社
页数: 95
格式:PDF
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第一章 高纯硅及其化合物的分析
§1-1 纯硅和二氧化硅中微量杂质的化学光谱测定
§1-2 高纯硅、二氧化硅、石英、四氯化硅、三氯硅烷中痕量杂质的化学光谱测定
§1-3 三氯硅烷中痕量杂质的化学光谱测定
§1-4 三氯硅烷中痕量镉、铟、铅、铜、铋的汞齐极谱测定
§1-5 三氯硅烷和四氯化硅中痕量硼的化学光谱测定(Ⅰ)
§1-6 三氯硅烷中痕量硼的化学光谱测定(Ⅱ)
§1-7 三氯硅烷含量的测定
第二章 高纯锗和二氧化锗的分析
§2-1 二氧化锗中痕量杂质的化学光谱测定
§2-2 二氧化锗中痕量硼的化学光谱测定
§2-3 二氧化锗中微量硼的比色测定
§2-4 二氧化锗中微量硅的测定
Ⅰ.目视比色法
Ⅱ.萃取光度法
§2-5 二氧化锗中痕量砷的测定
§2-6 锗及二氧化锗中痕量锑的测定
§2-7 二氧化锗中痕量钠的测定
第三章 高纯镓、砷及其化合物的分析
§3-1 高纯镓中痕量杂质的化学光谱测定
§3-2 高纯镓中痕量金的比色测定
§3-3 高纯镓中痕量铁的比色测定
§3-4 高纯砷及其化合物中痕量杂质的化学光谱测定
§3-5 高纯砷中痕量杂质的化学光谱测定
§3-6 高纯砷中痕量锑的比色测定
§3-7 高纯砷中痕量硒的比色测定
§3-8 高纯砷中硫的散射浊度法测定
§3-9 高纯砷和三氯化砷中痕量碲的示波极谱测定
§3-10 高纯砷和氧化砷中痕量锡的化学光谱测定
§3-11 高纯镓、砷和氧化砷中痕量硫的比色测定
§3-12 高纯镓、砷和氧化砷中痕量汞的化学光谱测定
§3-13 高纯镓、砷和砷化镓中痕量硅的比色测定
§3-14 砷化镓中痕量杂质的化学光谱测定
§3-15 砷化镓中碲的方波极谱测定
第四章 高纯铟的分析
§4-1 高纯铟中痕量杂质的化学光谱测定
§4-2 高纯铟中锑、镓、铊、金、铁的化学光谱测定
Ⅰ.高纯石墨中微量杂质的化学光谱测定
附录1 高纯石墨的分析
Ⅱ.高纯石墨中痕量硼的光谱测定
Ⅲ.高纯石墨中痕量硼的化学光谱测定
附录2 几种试剂的提纯
Ⅰ.水
Ⅱ.盐酸
Ⅲ.硝酸
Ⅳ.氢氟酸
Ⅴ.氢溴酸
Ⅵ.高氯酸
Ⅶ.氢氧化铵
Ⅷ.溴
Ⅸ.异丙醚