美国的半导体硅工业

美国的半导体硅工业

年份
1962
作者
罗英浩编著
出版
有色金属研究院
页数
170
格式
PDF
费用
9 元
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目录 共 62 项

一、前言
  • (一)概述
  • (二)硅的历史
  • (三)硅的资源
  • (四)硅的性质
  • (五)硅的用途
二、美国的半导体硅工业情况
  • (一)美国的半导体硅工业发展简史生产企业的工厂建设及现有水平
  • (二)美国半导体硅的生产消费和使用情况
  • (三)美国半导体硅的进出口、对外贸易和市场价格
三、美国半导体硅的生产方法和科学研究技术发展概况
  • (一)纯硅制取方法研究
    • 1.合金法
    • 2.酸浸法
    • 3.金属还原二氧化硅
    • 4.用氢化钙还原四氟化硅
    • 5.用碱金厉或铝还原四氟化硅或碱金属的氟硅酸盐
    • 6.将二氧化硅熔融入碱金属氧化物、氯化钠—氯化铝或氯化铝中炭极高温电解
    • 7.工业硅真空蒸馏
    • 8. Si+SiO2法
  • (二)半导体高纯度硅制取方法研究
    • 1.原料——各种硅化合物的制备与提纯
      • (1)四氯化硅的制备与提纯
      • (2)三氯氢硅的制备与提纯
      • (3)四碘化硅的制备与提纯
      • (4)硅烷的制备与提纯
    • 2.高纯度硅的制取——化学法
      • (1)杜邦法(四氯化硅锌还原)
      • (2)贝尔法(四氯化硅氢还原)
      • (3)西门子法(三氯氢硅氢还原)
      • (4)培西尼法(三氯氢硅热分解)
      • (5)硅烷热分解法(I.S.E法,ST&C法或IT&T法)
      • (6)四碘化硅热分解法
      • (7)四碘化硅氢还原法(西尔凡尼亚法)
      • (8)四氯化硅钠还原法(Aries法)
      • (9)四溴化硅法(钠、锌、氢还原)
      • (10)歧化法
      • (11)其它方法
      • (12)各种制取方法的比较
    • 3.高纯度硅的物理提纯
      • (1)元坩埚区域熔炼法
      • (2)水平区域熔炼法
    • 4.硅单晶的制取
四、美国硅半导体器件的工业生产和研究情况
  • (一)美国硅半导体器件的生产概况
    • 1.晶体管生产水平
    • 2.二极管及整流器生产水平
    • 3.半导体器件工厂设备的生产能力
    • 4.半导体器件的制造方法
    • 5.自动化生产
    • 6.人员雇用情况
    • 7.落货量及价格
  • (二)美国半导体器件的研究及发展情况
  • (三)美国半导体器件的进出口和对外贸易情况
  • (四)美国半导体器件的生产新技术及发展趋势
    • 1.外延生长法
    • 2.微型电子组件
    • 3.提高可靠性
    • 4.降低产品价格
    • 5.电致发光
五 美国半导体硅工业的特点及对其今后发展趋向的估计和看法
六 参考文献(249篇)
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